国家集成电路设计杭州产业化基地企业孵化器

一期占地约18亩，建筑面积20000平方米，共四幢大楼。平面设计采用院落型围合空间，建筑风格简雅大气，园区内花木葱郁，绿树成荫，环境非常优美。　　大楼采用浅进深的大柱网全框架结构，空间组合非常灵活。楼高为四层到六层，平均层高底层为4.2米，二、三层为3.9米，四至六层为3.6米。　　建筑面积1号楼4350平方米，2号楼3450平方米，3号楼6000平方米，4号楼6150平方米，楼面荷载标准每平方米3.5千牛。　　建筑外墙采用花岗岩墙裙和高级面砖铺贴墙身，优质铝合金门窗。楼内配置有7台国内名牌电梯，预留户式